真空泵博客

旋片真空泵和罗茨真空泵,旋片真空泵真空度不够

等离子体清洗是一种依靠“等离子体状态”物质的“活化”来去除物体表面污渍的清洗方法。属于电子工业清洗中的干洗。在此过程中,真空泵需要一定的真空条件来满足清洁要求。让我们来谈谈旋片真空泵在等离子清洗技术中的应用过程,并解释一下旋片真空泵有哪些特点。

等离子体清洗所需的等离子体主要由特定气体分子在真空和放电等特殊场合产生,如低压气体辉光等离子体。简单地说,如开始所述,等离子体清洗需要在真空状态下进行(通常保持在100帕左右),因此德国旋片真空泵需要进行真空抽吸。

等离子清洗的过程是什么旋片真空泵?

主要过程包括:首先将待清洗工件送入真空室进行固定,启动旋片真空泵等装置开始抽真空,抽至真空度约10Pa然后将等离子体清洁气体引入真空室(根据清洁材料的不同,所选择的气体也不同,如氧气、氢气、氩气、氮气等。),并将压力保持在100帕左右;在真空室中的电极和接地装置之间施加高频电压,从而气体被分解并通过辉光放电电离以产生等离子体;在真空室中产生的等离子体完全覆盖待清洗的工件后,清洗操作开始,清洗过程持续几十秒到几分钟。整个过程依靠等离子体在电磁场中运动,轰击待处理物体的表面,从而达到表面处理、清洗和刻蚀的效果(清洗过程在某种程度上是一个轻微的刻蚀过程);清洗完成后,蒸发的污物和清洗气体被排出,空气被送入真空室以恢复到正常大气压。

在清洗过程中,当控制真空室的真空环境时旋片真空泵,气体的流量决定发光色度:如果色度大,真空度低,气体的流量大;另一方面,当它是白色时,真空度太高,气体流速小。具体地,需要根据所需的处理效果来确定要实现的真空度真空泵。

等离子体清洗技术可以很好地处理金属、半导体、氧化物和大部分高分子材料(如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烯、环氧树脂、甚至聚四氟乙烯)以及其他原始基材,而不管待处理的基材类型如何,并且可以实现整体、局部和复杂结构的清洗。它还具有环保、安全、易于控制的优点。因此,湿法清洗技术在很多方面已经逐渐被取代,特别是在精密零件清洗、新型半导体材料研究和集成电路器件制造方面。

旋片真空泵与中国其他类似产品相比,应用于等离子清洗技术的优势:

1.易于使用,易于安装和维护;

2.旋片真空泵配有气动阀,可去除少量水蒸气;

3.旋片真空泵高真空极限;

4.内置强制进油,润滑充分,性能可靠;

5.配备自动防回油双重保险装置;

6.当入口压力保持在1.3310Pa时,它仍能连续运行;

7.不漏油,不喷油,不污染工作环境。

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